EN 
CN
AR
DA
NL
FR
DE
IT
JA
KO
RU
ES
SV
VI
TH
TR
GA
BE
UK
MS
JW
LO
LA
SU
TG
UZ
MYNOBIS LOQUERE
CVD 530L Fornax Coating For Carbide CNC Insert
| Locus Origin: | Hunan, Sinis |
| Notam nomen: | RDE |
| Model Number: | CVD530L |
| Certification: | ISO9001; ISO14001: OHSAS 18001; GB/T29490 |
| Minimum Ordinis Quantity: | Set 1 |
| Packaging Details: | si ligno |
| Tempus adferendi: | 6 7 menses, |
| Pensio conditio: | T / T, L / C |
| Facultates copiam: | MMM paro / month |
Description
Cum apparatu sui elaboratis coatingis, RUIIDEER processum coating congruentem et materias efficiens pro singulis instrumenti ascia emptoris praecisionem eliget; Ut praecisionem instrumentorum secantium in machinis parametris determinatam ap- plicandam praeclare perficias; Te praestabimus summa qualitas operarum efficiens ex variis aspectibus (praetractatio, post-tractatio, crassities vestiens, relationes productorum inspectiones, colores, fasciculos) etc.
Velox Detail:
CVD Coating fornax cum Duo Reactors
Applications:
Instrumenta carbida, filum indexable adiicit, scindens, striatum adiicit, carbida convertibilis adiicit: lineamenta vertendi adiicit, milling adiungit.
Competitive commodum;
Velox partus tempus
Technica officia & solutiones
Bonitas cum rationabile pretium
In tempus post venditionesque solution
Unus annus warantum
Specifications
| Fornax Type | RDE-CVD530-1600 |
| Altiore ratione reactor (φ * h) | * Φ530 1600mm |
| Tractus utilis (φ * h) | Φ500*1500mm*2 |
| diametrum lance | Φ375mm |
| quantitas lance | I pCs |
| summa virtute | 90KVA |
| intentione | 3x380VAC/50Hz |
| calefactivam | 55KVA |
| Max. operationem temperatus | 1050 ℃ |
| Area area (L * W * H) | * * 8100mm 7000mm 5100mm |
| totalis pondus | 10t |
| Temp. measurement | K-type Thermocouple |
| Components | Processus temperantiae ratio, operationes duales cum 2 depositione reactoria muri calidi, systema tunicae mediae temperaturae TiCN CVD, alumina depositio systematis, aluminium generantis trichloride etc. |
| working principle | CVD methodus est de componendi vel chemica reagitandi gasi volatile compositum ut cinematographicum depositum in workpiece patella formet. Praeparatio fontis metalli requisiti ad depositionem vaporis in processu CVD cognosci potest simplicium iacuit et multi- stratorum tunicas compositas ut TiN, TiC, TiCN et Al₂O₃. In CVD coating habet altam compagem cum viribus subiecti, adhaesio fortis, et uniformitas bona. In workpiece cum figura complexa potest etiam tunicam uniformem habere, et crassities pelliculae 5-20 microns attingere potest, quae melius gerunt resistentiam CVD efficiens. |
| Maior munera | Maculae quae applicari possunt sunt: TiC, TiN, Ti(C, N), Al₂O₃, etc. Supra CVD duras tunicas coëfficientem illapsam frictionem habent, altam gerunt resistentiam, magna lassitudine resistentia, et ut superficies sufficientem firmitatem dimensivam habeat. et altae adhae- siones subiectae sunt. |
